選択中のパスの複数のコピーを重ね、それぞれを少しずつオフセットし、透明度を設定することで、パスに後光のイメージを加えます。
生成されたコピーはグループ化され、元のパスの上に配置されます。
シェイプオブジェクト(![]()
![]()
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)とテキストオブジェクト(
)は、先にパスに変換しておきます。
選択中の一方のパスを、スタンプで押したようにもう一方のパスに沿って配置します。
この[散乱]というエクステンションは、[エクステンション]メニューのひとつである[パターンをパスに沿わせる]から派生した機能です。[パスエフェクト機能]の[パスに沿うパターン]も[パターンをパスに沿わせる]から派生しているため、3つの機能はよく似ていてややこしいので下記にまとめています。
③ ④ ⑤の設定項目は、[パスエフェクト機能]の[パスに沿うパターン]と同様ですので、そちらを参考にしてください。
ONの場合は、パスの方向に合わせて回転します。
OFFのときは、コピー間の間隔は③の[コピー間の間隔]の設定値になります。
ONのときは、スケルトンパスの長さを等分するように、自動的に間隔が設定されます。
パスに沿うパターン > 間隔を参考にしてください。
パスに沿うパターン > 通常オフセット/接線オフセットを参考にしてください。
パスに沿うパターン > パターンを縦にする を参考にしてください。
2つのパスの間を埋めるように徐々に変化させたパスを、ステップ数に応じて生成します。
配置の間隔に関するオプションです。
0.0のときに等間隔、0.0以外の場合は、間隔が徐々に変化し、0.0より正負に離れていくにつれて変化量が大きくなります。
正の数値を設定した場合は、先に選択した側から徐々に間隔が広くなっていきます。負の数値の場合はその逆になります。
選択中の2つのパスの間に何段階作成するかを設定します。
ONのとき、元の2つのパスの上にパスが複製されます。
ONのとき、フィル/ストロークのスタイル設定も段階的に補間されます。
OFFのときは、パスの形だけが補間されます。スタイルは最初に選択したパスのスタイルがそのまま使われます。
※[補間方式]については、わかり次第追加したいと思います。
下図の赤線はパスの「向き」を表しています。このようにパスの向きが揃っていないと、[補間]したとき次のようになります。
この場合は、一方のパスの向きを逆ににして適用しなおします。
また、「開始位置」にも影響を受けます。
下記の例では、左端の円と右端の四角形を[補間]した結果です。
向きを揃えた上で、円を回転させ、パスの開始位置をずらしています。
※赤い円マークを付けているノードが開始位置です。